Toote identifitseerimine
|
Üksus |
Spetsifikatsioon |
|
Toote nimi |
G4 lämmastikhape |
|
Toote kategooria |
Pooljuhtelektrooniline märgkemikaal |
|
Keemiline nimetus |
Lämmastikhape |
|
Keemiline valem |
HNO₃ |
|
CAS nr. |
7697-37-2 |
|
Molekulmass |
63.01 |
|
ÜRO number |
2031 |
|
Hinne |
SEMI G4 Ultra-Kõrge puhtusastmega elektrooniline kvaliteet |
Toote ülevaade
G4 lämmastikhape on kõrge-puhtusastmega tugevalt oksüdeeriv anorgaaniline hape, mis on spetsiaalselt välja töötatud pooljuhtplaatide tootmiseks ja täiustatud mikroelektroonika protsesside jaoks. See toode on toodetud mitmeastmelise destilleerimise, ülipeenpuhastuse ja klassi 1000 puhta-ruumi täitmisega. See toode kontrollib rangelt metalliioone, anioonseid lisandeid ja õhus leiduvaid osakesi, järgides täielikult SEMI G4 rahvusvahelisi pooljuhtstandardeid.
See toimib kriitilise märgkemikaalina pooljuhtide esiosa puhastamisel{0}}ja metalli söövitamisel. Tugeva oksüdatsiooni- ja puhastusvõimega eemaldab see tõhusalt metallilised saasteained, orgaanilised jäägid ja pinna mikro{2}defektid räniplaatidelt. Ultra-väike lisandite sisaldus välistab protsessi saastumise riski, stabiliseerib vahvli pinna kvaliteeti ja parandab tootmissaagist täiustatud laastu valmistamiseks.
Välimus:Värvitu või kergelt kahvatukollane läbipaistev lenduv vedelik
Tehnilised andmed (SEMI G4 standard)
|
Testitav element |
Spetsifikatsioon |
|
HNO₃ analüüs |
69,0–71,0 massiprotsenti |
|
Välimus |
Värvitu või kahvatukollane selge läbipaistev vedelik |
|
Värv (APHA) |
Vähem kui 10 või sellega võrdne |
|
Tihedus @ 20 kraadi |
1,40 ~ 1,42 g/cm³ |
|
Aurustumise jääk |
Vähem kui 50 ppb või sellega võrdne |
|
Üksikud metallid (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr) |
Igaüks neist on väiksem või võrdne 10 ppb |
|
Sulfaat (SO₄²⁻) |
Vähem kui 50 ppb või sellega võrdne |
|
Kloriid (Cl⁻) |
Vähem kui 30 ppb või sellega võrdne |
|
Fosfaat (PO₄³⁻) |
Vähem kui 30 ppb või sellega võrdne |
|
Osakesed 0,2 μm või suuremad |
Vähem kui 100 tk/ml või sellega võrdne |
Märkus.Kõik testiandmed põhinevad partii{0}}spetsiifilisel COA-l (analüüsisertifikaat).
Rakendused (pooljuhtide märgprotsess)
Vahvlite raskemetallide puhastamine:Eemaldage tõhusalt raskemetallide saasteained nagu raud, vask, tsink ja anorgaaniliste lisandite jäägid räniplaatide pindadelt. Selle tugev oksüdeeriv omadus tagab põhjaliku puhastamise ilma sekundaarset saastumist tekitamata, vastates täiustatud vahvliprotsesside ülikõrgetele-puhtusnõuetele.
Metallist õhukese kile söövitus:Kasutatakse erinevate metallide õhukeste kilede peeneks söövitamiseks ja eemaldamiseks pooljuhtide tootmisel, stabiilse söövituskiiruse ja suurepärase ühtlusega, sobib mikroelektroonikaseadmete täppismustrite töötlemiseks.
Kombineeritud märgpuhastuslahuse koostis:Kasutatakse segatud happepuhastuslahuste valmistamiseks pooljuhtide RCA standardsete puhastusprotsesside jaoks, tehes koostööd teiste elektrooniliste kemikaalidega orgaaniliste jääkide, osakeste ja ioonsete lisandite igakülgseks eemaldamiseks.
MEMS ja täiustatud pakenditöötlus:Sobib MEMS-seadmete, pooljuhtandurite ja kiibipakendite komponentide pindade puhastamiseks, lisandite eemaldamiseks ja mikro{0}}söövitamiseks, kohandudes -täpse mikroelektroonika tootmisstandarditega.
Pakendamise ja täitmise standard
Pakendi tüüp:Puhas -klassi korrosioonikindel- HDPE suletud trummel, spetsiaalne lämmastikhappe keemiline pakend
Ühine spetsifikatsioon:25 kg / 30 kg väike trummel, 1000 kg korrosioonikindel IBC-kott
Täitmiskeskkond:Klass 1000 puhas ruum, suletud üli-puhas täitesüsteem, välistab rangelt sekundaarsete osakeste ja lisanditega saastumise
Tihendusstandard:Anti-oksüdatsioon, anti-lenduv ja lekkekindel-suletud struktuur, mis hoiab ära toote riknemise ja välisreostuse
Säilitamine ja säilivusaeg
● Hoida jahedas, kuivas, ventileeritavas ja spetsiaalses söövitavate kemikaalide laos, hoida tihedalt suletuna, eemal otsesest päikesevalgusest, kõrgest temperatuurist ja soojusallikatest, et vältida termilist lagunemist.
● Tugevate oksüdatsioonireaktsioonide ja ohutusriskide vältimiseks eraldage see rangelt põlevatest ainetest, redutseerivatest ainetest, aluselistest kemikaalidest ja orgaanilistest materjalidest.
● Vältige pikaajalist{0}}valgusega kokkupuudet, et vältida fotolüüsist tingitud värvimuutust ja puhtuse vähenemist.
● Säilivusaeg:12 kuud standardsetes suletud ja pimedas säilitustingimustes
Käsitsemine ja ohutusmeetmed
● Lämmastikhape on tugevalt söövitav ja lenduvusega oksüdeeriv. Operaatorid peavad kandma täielikku professionaalset isikukaitsevahendit: happe{1}}kindlaid kindaid, täielikult suletud kemikaalide kaitseprille, korrosioonikindlat-põlle ja kaitseriietust.
● Kõik käsitsemis-, lahjendamis- ja doseerimistoimingud tuleb läbi viia sertifitseeritud tõmbekapis; vältida lenduvate mürgiste gaaside sissehingamist ja otsest kokkupuudet naha, silmade ja limaskestadega.
● Lahjendamise ajal lisage aeglaselt lämmastikhapet deioniseeritud vette; Ärge kunagi valage vett kontsentreeritud lämmastikhappesse, et vältida vedeliku pritsimist ja keemilisi põletusi.
● Juhusliku kokkupuute, mahavalgumise või lekke korral rakendage viivitamatult erakorralist kõrvaldamist vastavalt standardsetele tööprotseduuridele ja ohutuskaardi juhistele.
● Täielikku ohuklassifikatsiooni, transpordieeskirju ja üksikasjalikke esmaabimeetmeid{0} vaadake ametlikust ohutuskaardi dokumendist.
Kvaliteedi tagamine
Iga G4 lämmastikhappe partii toodetakse, puhastatakse ja kontrollitakse rangelt kooskõlas SEMI G4 rahvusvaheliste pooljuhtide tööstuse spetsifikatsioonidega. Iga saadetisega on kaasas partii-spetsiifiline ametlik COA. Kogu tootmis- ja täitmisprotsess hõlmab ranget puhta-ruumi saastumise kontrolli ja oksüdatsiooni-kindlat juhtimist, tagades ülikõrge puhtuse, vähese lisandisisalduse ja partii stabiilse konsistentsi, mis vastab täielikult täiustatud pooljuhtide märgtootmisprotsesside rangetele nõuetele.
Kuum tags: elektroonilised kemikaalid g4 lämmastikhape (pooljuhtmärgkemikaal), Hiina elektroonilised kemikaalid g4 lämmastikhape (pooljuhtmärgkemikaal) tootjad, tarnijad, tehas

