Toote identifitseerimine
|
Üksus |
Sisu |
|
Toote nimi |
G4 Väävelhape |
|
Kategooria |
Pooljuhtide märg elektrooniline keemia |
|
Keemiline nimetus |
Väävelhape |
|
Keemiline valem |
\\(\\boldsymbol{H_2SO_4}\\) |
|
CAS nr. |
7664-93-9 |
|
Molekulmass |
98.08 |
|
Hinne standard |
SEMI G4 klass |
Toote kirjeldus
4 Väävelhape on üli-kõrge-puhtusastmega tugev anorgaaniline hape, mis on toodetud täiustatud pooljuhtplaatide tootmiseks. See on toodetud spetsiaalse puhastamise ja ülipeenfiltreerimise teel, sellel on ülimalt-vähe-metalli lisandid ja kontrollitud osakeste tase, mis vastab SEMI G4 spetsifikatsioonile. Seda kasutatakse laialdaselt vahvlite puhastamiseks, fotoresisti eemaldamiseks, orgaaniliste jääkide eemaldamiseks ja pinnatöötluseks IC-tootmises, minimeerides saastumise riski -kriitiliste mikro{10}}elektroonikaprotsesside puhul.
Välimus:Värvitu selge õline vedelik, lõhnatu.
Tehnilised andmed (SEMI G4 standard)
|
Testitav element |
Spetsifikatsioon |
|
Analüüs (\\(H_2SO_4\\)) |
96,0–98,0 massiprotsenti |
|
Välimus |
Värvitu ja selge õline vedelik |
|
Värv (APHA) |
Vähem kui 10 või sellega võrdne |
|
Tihedus @ 20 kraadi |
1,83-1,85 g/cm³ |
|
Aurustumise jääk |
Vähem kui 100 ppb või sellega võrdne |
|
Osakesed 0,2 μm või suuremad |
Vähem kui 100 tk/ml või sellega võrdne |
|
Üksikud metallid (Al, Fe, Cu, Na, K, Ca, Mg, Zn, Ni, Cr jne) |
Igaüks neist on väiksem või võrdne 10 ppb |
|
Kloriid (\\(Cl^-\\)) |
Vähem kui 100 ppb või sellega võrdne |
|
Nitraat (\\(NO_3^-\\)) |
Vähem kui 200 ppb või sellega võrdne |
|
Fosfaat (\\(PO_4^{3-}\\)) |
Vähem kui 200 ppb või sellega võrdne |
Rakendused
1. Pooljuhtplaatide puhastamine, eemaldage orgaanilised saasteained, osakeste jäägid ja metallilised lisandid.
2. Photoresisti eemaldamise protsess IC tootmiseks.
3. Segatud märg{1}}keemialahuste valmistamine pooljuhtide esi{2}}protsessi jaoks.
4. Pinnatöötlus täiustatud pakendite, MEMS-seadmete jaoks.
Pakendamine
● 330 kg HDPE trummel
● 1500 kg IBC tassik
● 20MT ISO konteinerpaak (lahtiselt)
Täidetakse puhtas{0}}ruumikeskkonnas, et vältida sekundaarset saastumist.
Säilitamine ja kõlblikkusaeg-
● Hoida jahedas, kuivas, hästi{0}}ventileeritavas laos, tihedalt suletuna, eemal niiskusest, kuumusest ja kokkusobimatutest ainetest.
● Vältige otsest päikesevalgust.
● Kõlblikkusaeg-: 12 kuud soovitatud säilitustingimustel.
Käsitsemise ja ohutuse märkused
● Tugev söövitav materjal. Kandke töötamise ajal happe{1}}kindlat isikukaitsevahendit (kaitseprille, happe-kindaid, põlle).
● Lisage hape vette alati aeglaselt; ärge kunagi valage vett kontsentreeritud väävelhappesse (tugev eksotermiline reaktsioon).
● Täieliku ohuteabe,{0}}esmaabi, lekke käitlemise ja transportimise juhiste saamiseks vaadake vastavat ohutuskaarti.
Kvaliteedi tagamine
Iga tarnega peab kaasas olema partii{0}}spetsiifiline analüüsisertifikaat (COA). SEMI G4 saastenõuete täitmiseks järgivad kõik tootmis- ja täitmisprotseduurid puhta-ruumi kontrolli.
Analüüsitunnistus
|
Toote nimi |
Hinne |
Suhteline molekulmass |
Molekulaarvalem |
|
Väävelhape |
Elektroonilised kemikaalid G4 |
98.07 |
H2NII4 |
|
Kontrollige esemeid |
Tehnilised andmed |
Kontrollige esemeid |
Tehnilised andmed |
|
Välimus |
Värvitu läbipaistev vedelik |
Nikkel (Ni), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Analüüs (H2SO4), % |
Suurem või võrdne 96,0 |
vask (Cu), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Kromaatilisus, Hazeni ühikud |
Vähem kui 10 või sellega võrdne |
Tsink (Zn), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Põlemisjääk (väävelhappena), ppm |
Väiksem või võrdne 2-ga |
gallium (Ga), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Kloriid (Cl), ppb |
Vähem kui 50 või sellega võrdne |
Germaanium (Ge), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Nitraat (NO3), ppb |
Vähem kui 50 või sellega võrdne |
Arseen (As), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Ammooniumisool (NH4), ppb |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
Strontsium (Sr), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Vähendatud kaaliumpermanganaadi aine (asSO2), ppm |
Väiksem või võrdne 2-ga |
Tsirkoonium (Zr), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Liitium (Li), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
nioobium (Nb), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Berüllium (Be), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
Molübdeen (Mo), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Boor (B), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
Hõbe (Ag), lk |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Naatrium (Na), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
Kaadmium (Cd), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Magneesium (Mg), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
Tina (Sn), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Alumiinium (Al), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
Baarium (Ba), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Kaalium (K), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
Tantaal (Ta), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Kaltsium (Ca), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
Kuld (Au), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Titaan (Ti), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
Tallium (Tl), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Vanaadium (V), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
Plii (Pb), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Kroom (Cr), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
Vismut (Bi), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Mangaan (Mn), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
Osakesed (suurem kui 0,2 μm või sellega võrdne), arv/ml |
Vähem kui 300 või sellega võrdne |
|
Raud (Fe), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
Osakesed (Suurem või võrdne 0,3 μm), arv/ml |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
|
Koobalt (Co), ppt |
Vähem kui 100 või sellega võrdne |
Osakesed (Suurem või võrdne 0,5 μm), arv/ml |
Väiksem või võrdne 5-ga |
Kuum tags: elektroonilised kemikaalid g4 väävelhape, Hiina elektroonilised kemikaalid g4 väävelhape tootjad, tarnijad, tehas